半導(dǎo)體單晶硅截?cái)鄼C(jī)模型
模型制作工藝:3d打印
模型制作材質(zhì):光敏樹(shù)脂
模型制作比例:1:5.5
模型制作工期:15個(gè)工作日
模型外圍尺寸約:1.42米*0.57米(高)*0.86米
半導(dǎo)體單晶硅截?cái)鄼C(jī)模型
模型制作工藝:3d打印
模型制作材質(zhì):光敏樹(shù)脂
模型制作比例:1:5.5
模型制作工期:15個(gè)工作日
模型外圍尺寸約:1.42米*0.57米(高)*0.86米
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